一、高频电磁屏蔽用ITO膜结构与性能分析（论文文献综述）
曹文龙[1]（2021）在《宽频电磁屏蔽玻璃制备及性能研究》文中研究指明随着电磁仪器设备与电磁技术的广泛应用,人们对电磁屏蔽材料的需求越来越多。电磁屏蔽玻璃既具有电磁屏蔽性能又具有可见光透过性,在军事和民用领域应用需求明确,对电磁屏蔽玻璃的研究成为屏蔽材料研究的热点方向之一。针对在10 k Hz～18 GHz宽频段高效电磁屏蔽的技术难题,本文制备研究了高频电磁屏蔽ITO镀膜玻璃和低频电磁屏蔽铁镍合金镀膜玻璃,并设计验证了二者复合的宽频电磁屏蔽玻璃。主要研究内容及结论如下:（1）采用磁控溅射法制备了ITO镀膜玻璃,研究了ITO薄膜结构与其光电性能、电磁屏蔽性能的关系,在此基础上设计研究了多层ITO镀膜玻璃的电磁屏蔽性能。结果表明:多层ITO镀膜玻璃在30 MHz～18 GHz的高频波段电磁屏蔽性能较好,可达到30 d B以上,但在10 k Hz～30 MHz的低频波段屏蔽性能不足20 d B,多层ITO结构可以明显提高镀膜玻璃的高频电磁屏蔽性能,降低其透光率,但不影响其雾度。（2）采用真空电子束蒸发法制备出铁镍合金镀膜玻璃,研究了不同真空度、镀膜温度和热处理温度对镀膜玻璃光、电、磁性能的影响,并对最优镀膜工艺及热处理工艺下制备的铁镍合金镀膜玻璃的屏蔽性能进行测试。结果表明:真空度、镀膜温度的提高可以改善镀膜玻璃透光率、方块电阻以及相对磁导率;随着膜厚的增加,铁镍合金镀膜玻璃的方块电阻迅速减小,相对磁导率略微增加,透光率逐渐降低,雾度变化不大。热处理使得薄膜的结晶度增加,随着热处理温度的升高,铁镍合金镀膜玻璃的透光率逐渐增加,方块电阻值先减小后增大,在300℃热处理时有最小的方块电阻值。铁镍合金镀膜玻璃在10 k Hz～30 MHz的低频电磁波频段内的屏蔽效能较高,维持在30 d B以上,在14 k Hz时最高达到55 d B,在30 MHz～18 GHz的较高频段范围内的屏蔽效能较低,普遍在30 d B以下。（3）采用ITO镀膜玻璃和铁镍合金镀膜玻璃设计仿真了复合结构宽频电磁屏蔽玻璃,完成试样制备并对其电磁屏蔽性能进行验证。结果表明:ITO和铁镍合金复合结构电磁屏蔽玻璃可实现10 k Hz～18 GHz的宽频电磁屏蔽,屏蔽效能仿真结果在40 d B以上,实际测试结果略低,在30 d B以上,部分频段最高可达45 d B以上;受铁镍合金镀膜玻璃透光性的影响,复合结构镀膜玻璃的透光率较低,后续可采用较为成熟的膜层镂空技术予以解决。
袁昌卫[2]（2021）在《基于超薄金属的透明电磁屏蔽多层结构设计与制备研究》文中提出
殷光[3]（2021）在《基于层层组装技术的电磁屏蔽复合织物的结构设计与性能研究》文中提出随着科技进步和5G时代的到来,电磁波的辐射和污染问题日益加剧,严重威胁着人体健康和电子仪器设备的正常运行,因此,重视和发展高性能的电磁屏蔽材料变得非常必要。其中,以纺织品为基材的电磁屏蔽材料作为一种新兴的柔性电磁兼容材料,不仅具有优异的电磁屏蔽特性,又能保持纺织品本身的柔软、透气、易裁剪和可穿戴等性能,在工业生产的劳动防护、提高微波器件的性能以及军事作战的电子对抗等方面日益发挥着重要作用。因此,本课题旨在设计和开发出一种柔性的高性能电磁屏蔽复合织物,以满足目前对电磁防护材料“薄、轻、宽、强”的发展需求,并为新一代电磁屏蔽材料的发展提供实验思路和理论基础。针对当前电磁屏蔽复合织物的表面多重反射界面难构建和纺织品属性与电磁屏蔽设计难以相融合等问题,本课题拟开展基于层层组装技术的电磁屏蔽复合织物的结构设计与性能研究。首先以新型二维导电过渡金属碳/氮化物（MXenes）和聚苯胺（Polyaniline,PANI）为屏蔽剂,以碳纤维织物为基材,通过溶液浸渍和原位聚合等方法,成功制备出一种层层包覆结构的PANI/MXene/碳纤维电磁屏蔽复合织物。其中,通过扫描电镜（SEM）、透射电镜（TEM）、X射线衍射物相（XRD）和能谱（EDS）分析等进行微观结构和性能的表征,并进行了导电性能、电磁屏蔽性能以及应用性能的测试。研究结果表明:经过5次层层组装后的复合织物具有24.5 S/m的电导率,其电磁屏蔽效能可以达到26.0 d B,满足了对日用电磁防护材料的基本要求。该工艺通过调控结合负载方式和组装次数实现碳纤维表面多重界面的构建,较好地保持纤维属性的同时实现了简单、快速、高效的制备。其次,为实现电磁屏蔽复合织物的高性能化和多功能化,我们在之前的研究基础上进行了结构设计与改进,以一维聚苯胺纳米线和二维MXene为屏蔽剂,再利用真空辅助抽滤的方式,通过静电吸附和氢键作用将二者依次均匀地负载于碳纤维织物表面,形成了更加致密的导电交联网络;随后采用聚二甲基硅氧烷（PDMS）进行疏水整理,所制得的复合织物实现了各项性能的显着提升。通过对其进行包括电磁屏蔽性能在内的多项性能测试以及微观结构表征后发现:经过50次组装后的复合织物厚度仅有0.36 mm,而电导率可以达到325 S/m,电磁屏蔽效能为35.3 d B;同时其表现出135.2°的水接触角,具备了良好的疏水性与自清洁能力;并且在3 V低电压的驱动下,复合织物表面温度可以稳定在53.3℃左右,实现了优异的焦耳加热性能,进一步拓展了其应用领域。此外,该材料还表现出更优异的透气性（346mm/s）,柔韧性以及可裁剪加工性等织物属性,是一种发展潜力良好的新型织物基电磁屏蔽材料。
江浩[4]（2021）在《新型超带宽透明吸波体设计及其机理研究》文中进行了进一步梳理在现代军事技术领域,超材料吸收体正向着多功能化趋势发展,为了能够满足应用在隐身战机、军用舰船的座舱、指挥舱等方面的发展需求,吸波体在满足“厚度薄、重量轻、吸收频带宽、吸收强度大”的综合性能要求的同时,还需要具备较好在可见光频谱的透过性。更进一步地,研究发现透明吸波体的宽带吸收性能与高角度入射稳定性能存在一定的制约。随着入射角的增大,吸波体与自由空间失配程度逐渐加剧,从而引起了吸收强度减弱、吸收带宽变窄等问题。本文研究重心是解决平面宽带透明吸波体的角度稳定性不够、共形吸波体的角度稳定性研究不足等问题,具体工作如下:首先,提出了一种基于方形螺旋单元的具有高角度稳定性的宽带透明吸波体。该吸波体依次由聚氯乙烯（Polyvinyl chloride,PVC）块制备的补偿层,由氧化铟锌（indium tin oxide,ITO）导电膜刻蚀而成阻抗层,PVC与衬底聚对苯二甲酸乙二醇酯（Polyethylene terephthalate,PET）块组合而成的基板层和底部由连续ITO膜制备的地板层四部分组成。为了获得宽带与高角度稳定性,利用补偿层解决了吸波体在高角度入射时与自由空间存在的失配问题,利用紧凑的方形螺旋单元拓展了吸波体在高角度入射时的吸收带宽。其次,针对现有柱面共形吸波体的角度稳定性研究不足的问题,设计了共形模型并进行加工以及实测。结果表明,该吸波体在包括不同曲率弯曲的共形状态下具有良好的透光性（平均透光率为69.4%）、宽带吸收性能（相对带宽大于或等于85.7%）和极高的入射角度稳定性（60°）。此外,还利用小型化设计实现了一种基于波浪螺旋单元的吸波体,实现60°的角度稳定性的同时拓展了吸收带宽。其次,为了更进一步拓展吸收带宽,提出了一种基于六边形组合单元的宽带高角度稳定的平面透明吸波体。该吸波体主要由双层透明聚4-甲基戊烯-1（Methyl pentene copolymer,TPX）板和双层ITO导电膜制备而成的夹心结构。首先,为了在高角度入射时实现宽带吸收,利用双馈偶极子谐振器原理,通过设计一种新颖的由中心连接线和六边形螺旋单元交织而成的“蛛网状”阻抗层结构调控反射响应。其次,为了实现吸波体的宽带与高角度稳定性的兼容性设计,利用低介电常数的TPX板用作最佳的基板层与补偿层。实验结果表明,该吸波体展现了良好的透光性（平均透光率为70.7%）,超宽带吸收性能（相对带宽超过106.6%）和高角度稳定性（60°）。此外,其吸收带宽随着入射角的增大而逐渐增大,在60°入射时,其相对带宽达到124.6%。最后,为了将透明吸波体的应用进一步地扩展到例如飞机驾驶舱等非平面结构中,提出了一种球面共形宽带透明吸波体。该吸波体是由双层具有PET衬底的ITO膜夹空气基板层的单层吸波体。该吸波体在平面状态下的良好的透光性（平均透光率为68.7%）,40°的角度稳定性与宽带吸收特性（相对带宽超过109.8%）都通过实验得到了验证。特别地,针对球面共形吸波体吸收性能的研究尚未见诸报道等问题,在中心弯曲角为45°的球面共形状态下进行了实验测试。结果表明,该吸波体的相对吸收带宽达到96.8%。总之,本文通过设计新颖的紧耦合阻抗层结构和选择合适的补偿层实现了吸波体的宽带吸收和高角稳定的兼容设计。所提出的多种吸收体展现出了宽频带吸收、高角度稳定性、交叉极化反射抑制性以及对各种角度入射时的极化不敏感性等重要特征,这使得其能够广泛应用于柔性材料、光学和雷达吸波领域。
吕坤[5]（2021）在《基于超材料的电磁吸波体研究》文中研究表明电磁超材料（Electromagnetic Metamaterial）是一种新型人工电磁材料,具有自然界所不具有的超常物理特性。电磁超材料吸波体（Metamaterial Absorber,MA）是一种由电磁超材料组成的复合吸波材料。通过对单元结构及其周期性排列的设计,可以获得一系列奇异的电磁特性。本文基于超材料吸波体的设计思想,为解决现阶段电磁超材料吸波体工作频段窄,无法与防护目标共形以及透光性差等缺点,分别设计了多款电磁吸波体,主要内容如下:1.设计了两款分别基于单层以及多层电阻膜的宽带超材料吸波体。分析了电磁波吸收机理,数值模拟发现两种吸波体表面阻抗能在很宽的频率带宽内与自由空间的阻抗近似相等,从而实现宽频带吸收。对于单层结构的吸波体,在6.58～16.38 GHz频率范围内达到了对入射电磁波90%以上的吸收,覆盖整个X波段和部分Ku波段。完成了13×27阵列的样品的加工制作,测试结果在较宽的频率范围（7～16.4 GHz）内实现了吸收率大于90%的高吸收。对于多层结构的吸波体,在2.95～18.79 GHz超宽带范围内实现高吸收,相对吸收带宽达到了153%。2.开展了基于氧化铟锡（Indium Tin Oxide,ITO）的光学透明超宽带超材料吸波体的设计与研究工作,可以在10～75.5 GHz的频率范围内实现较高的吸收。研究了其表面电流分布,解释了吸收机理。探究了不同ITO层的表面电阻的吸收响应。通过激光刻蚀工艺制作了一个尺寸为276 mm×276 mm,具有16×16单元阵列的吸波体样品。实验结果与仿真结果吻合度较高,验证了本次设计的正确性和可行性。同时利用紫外可见光分光光度计测试了其透光率,得到了吸波体样品在可见光波段的平均透光率为60%。3.研究设计了一款三波段柔性可共形超材料吸波体。使用柔性基板代替传统的刚性介质基板,可以实现与复杂结构的物体共形,增加了其实际应用价值,并且该结构整体厚度仅0.4 mm,在每个吸收峰处都表现出了完美的吸收。解释了所设计的超材料吸波体的电磁特性和吸波机制,研究了参数对吸收性能的影响。制作了一个20×30阵列的样品,并利用自由空间法对电磁吸波体的性能进行了实验验证。
卢玉娇[6]（2019）在《基于高阻抗表面的宽带超材料吸波体研究》文中认为高阻抗表面由于具有表面波抑制和同相位反射等独特的电磁特性,引起了人们的广泛关注,在无线电通信、微波电路、集成电路和天线等领域具有潜在应用。近年来,利用高阻抗表面同相位反射的电磁特性来实现吸波材料的构想成为研究的热点之一。本文基于超材料吸波体的设计思想,采用周期性结构的高阻抗表面来设计高性能的吸波结构,开展了基于电阻膜的宽带超材料吸波体设计、制作与测试工作。主要内容概括为以下几点:1.开展了基于电阻膜的宽带超材料吸波体的吸波机理的研究工作,探究了其各参数对吸收性能的影响。2.开展了基于导电塑料的微波宽带超材料吸波体的设计与研制工作。首先结合增材制造技术的工艺特点,设计出工作在Ka波段的超材料吸波体。对该结构的性能进行了数值和实验验证。模拟结果表明,在16.354.3GHz的频率范围内,该吸吸波体的吸收率大于90%,相对吸收带宽为108%;采用增材制造技术方法完成了10×10阵列的样品加工制作,在23.340GHz实现了吸收率均大于90%的宽带吸收,覆盖了整个Ka波段。在此基础上,通过仿真设计优化,设计出工作在Ku波段的宽带吸波体,完成了20×20阵列的样品加工制作,并在12.518.0GHz范围内实现了吸收率大于90%的宽带吸收。3.开展了基于氧化铟锡的太赫兹光学透明超材料吸波体的研究与设计工作。所设计的超材料吸波体在谐振频率120.4GHz下,表现出95.8%的单波段吸收。并研究了其表面电流分布和功率损耗分析,解释了吸波的物理机理。此外,对于不同的氧化铟锡膜表面电阻值,该吸波体具有单波段或双波段的独特特性。通过紫外光刻工艺,制作了一个尺寸为2cm×2cm,具有20×20的单元阵列的超材料吸波体。测试结果表明该吸波体在120.8GHz处具有强吸收峰,吸收率为94.1%,在整个可见光波段的透光率超过70%。
赖森锋[7]（2018）在《非金属导电材料在表面等离子体激元和人工电磁结构中的应用》文中研究说明表面等离子体激元（Surface Plasmon Polaritons,SPPs）是在导体表面区域传播的自由电荷振荡和电磁场相互作用而形成的共振现象,自由电荷振荡和电磁场之间的相互作用使得表面等离子体激元具有很多独特的性质,尤其是具备在亚波长尺度内调节电磁场分布的重要特性,并形成许多新兴应用。目前相关研究已经形成成熟的“等离子学（plasmonics）”。然而,大部分对表面等离子体激元的传统研究都局限于金属材料,且部分因为金属材料频率特性的限制,大多集中于可见光和红外光波段。近年来,J.B.Pendry等首先提出的人工等离子材料,可以在微波频段支持类似表面等离子体激元的电磁波传播,被称为“伪表面等离子体激元（Spoof SPPs）”,为开发各种各样的表面波结构和器件提供了重要的技术手段,尤其是在人工电磁结构设计中起到了重要作用。同时,非金属等离子材料的研究也得到了越来越多的重视。本文着重研究非金属材料在表面等离子体激元和人工电磁结构方面的应用,包含深紫外、微波、太赫兹等波段。论文主要研究工作及成果概括如下:1.深紫外波段基于砷化镓材料的表面等离子体激元激发,并应用于波束增强。从能够激发表面等离子体激元现象的物理模型出发进行理论推导,预测在紫外波段,砷化镓能够激发表面等离子体激元。通过计算机仿真研究证明,砷化镓在一定条件下,可以激发表面等离子体激元,并且在该波段砷化镓具有比银等金属更好的表面等离子体激元效应。同时,设计出的周期圆环凹槽结构（牛眼结构）,能够实现在紫外波段的波束增强,在中心处得到19倍的光强增强,将特定波长入射光的透射光发散角度的半高宽度（FWHM）从48°集中到6°。此工作为设计紫外波段表面等离子体结构提供了新的材料和手段。2.微波波段基于氧化铟锡玻璃材料的人工电磁结构,并应用于透明超宽带吸波结构。相对于目前的主流微波器件使用的常规印刷电路板（PCB）板材的局限性,提出基于氧化铟锡（ITO）玻璃来设计微波器件,设计了一种基于ITO玻璃的可见光透明的微波波段超宽带吸波结构,该结构在可见光频段透过率高于80%,具有在视觉上高度透明的特点;同时,此结构吸收效率大于80%的频带宽度高达23.4GHz（从15.6GHz到39 GHz,电磁波垂直于结构表面入射）。实验结果验证了仿真结果和理论分析。该结构的厚度仅为1.1 mm,只有中心频率32.5 GHz所对应波长（9.23 mm）的0.11倍,并有望进一步减薄。仿真研究进一步表明,此结构对入射波的极化方式不敏感。这种新型的吸波结构设计实现了可见光和微波两个频带上的超宽带低反射,为将来的微波系统设计提供了新的思路,对于微波隐身系统等应用具有重要的意义。3.微波波段基于柔性基底氧化铟锡材料的人工电磁结构,并应用于柔性透明超宽带吸波结构。传统的超材料吸波结构有光学不透明以及硬度较大不能够随意折叠的缺陷,而近几年随着透明电磁屏蔽材料和柔性电子器件的快速发展,柔性透明吸波结构的需求变得日益迫切。本文提出了一种新型的柔性透明吸波器件,使用聚对苯二甲酸乙二醇酯（Polyethylene Terephthalate,PET）薄膜作为基底材料,使用ITO作为导电材料制备基于人工电磁结构的微波吸波结构,即便在弯曲的状态下,也能够保持较好的吸波性能。利用其设计的吸波结构既保持了光学透明以及柔性的特点,又达到了宽带微波吸收,其平面状态下吸收率大于80%的带宽为19.9 GHz-51.8 GHz。对平面状态下的性能进行了数值仿真和实测对比,证明了该吸波结构的性能符合理论分析。将该样品共形于不同直径的圆柱体表面,测得该结构在弯曲状态下的吸收性能较为优异。并对弯曲状态下的吸收性能进行了理论推导和实际测试,实测结果符合理论推导。该柔性透明超宽带吸波结构可应用于电子设备的电磁防护等。4.太赫兹波段基于氧化铟锡薄膜的表面等离子体激元激发,并应用于反射成像中的精确定位及比例尺。太赫兹时域光谱仪成像因为其光谱带宽宽、非接触性测量且对成像目标不造成损伤等优点而成为近年来的一个热点,然而在当前研究中因为受到衍射极限的限制造成其成像定位分辨率较低,成为较明显的一个局限。本文研究了氧化铟锡等材料在太赫兹波段的表面等离子体激元效应,提出了一种反射式太赫兹成像中的定位结构,并可基于此制备反射式太赫兹成像中的超精密比例尺。
孙艳华[8]（2017）在《复杂电磁环境下激光探测系统电磁屏蔽技术研究》文中指出随着军事技术和光电对抗技术的发展,未来战场的电磁对抗环境将越来越严峻。激光探测系统对抗复杂电磁环境的需求也逐渐迫切。为了解决这一问题。本文根据特定的激光工作波段,对镀金属网栅和ITO透明导电膜两种整流罩的电磁屏蔽效能、透光性及成像性进行研究,来实现激光探测系统抗复杂电磁环境干扰的目的。本文采用了金属网栅和ITO透明导电膜滤波技术,完成了激光探测系统光学整流罩抗电磁波屏蔽、透光性、成像性实验。用等效电路模型理论分析了金属网栅的周期和宽度等结构参数对电磁波屏蔽作用的影响,得出了减小网栅的周期或增加网栅的线宽可以提高电磁屏蔽效能的结论,光学系统的透过率则与其相反。网栅的周期越大,线宽越小则透波性越好;用分层媒质理论分析了ITO透明导电膜的介质电导率对电磁波屏蔽效能的影响,得出了减小电导率可以提高ITO透明导电膜屏蔽效能的结论,光学系统透过率则与膜层的厚度成反比。采用激光直写的方法制备了周期为:400μm,线宽为:9μm金属网栅整流罩;采用射频磁控溅射法制备了方块电阻分别为:10Ω、5ΩITO透明导电膜整流罩。采用对比试验方法,完成了金属网栅整流罩和ITO透明导电膜整流罩电磁屏蔽效能、透光性、成像性的测试。通过金属网栅整流罩和ITO透明导电膜整流罩的理论及测试数据分析可以得出,金属网栅和ITO整流罩在满足同样光学透过率的前提下,综合成本及制作工艺等方面考虑,从应用角度出发,ITO透明导电膜整流罩综合性能优于金属网栅整流罩。
赵亚丽,张青翠,李克训,魏学红,石其禄[9]（2015）在《光子晶体膜制备工艺对其性能的影响》文中研究表明针对电磁兼容材料高屏效和高透光相互制约的技术难题,本文设计了以ITO/Ag为周期的光子晶体膜。本文着重分析了制备工艺对其屏蔽效能、透光率和导电性能的影响。研究结果表明,随着氧氩比的增加,透光率和导电性提高,屏蔽效能相应降低。而在无氧的条件下沉积Ag膜,可避免在高频下屏蔽效能的降低。随着沉积温度的提高,金属Ag膜变粗糙,屏蔽效能和透光率明显降低。通过对室温沉积光子晶体膜进行高温退火,光子晶体膜的结晶度、透光率和屏蔽效能都相应提高。这种光子晶体具有高屏效和高透光的双重性能,在电磁屏蔽可视领域具有较好的应用前景。
孟灵灵[10]（2013）在《涤纶基布表面磁控溅射纳米铜膜及性能研究》文中指出课题基于纳米金属薄膜生长过程及模式的理论，阐明了不同组织结构涤纶基布表面磁控溅射纳米铜膜的成形机理，并在此基础上提出了变角度沉积生长模型，说明了基布结构和沉积工艺与表面磁控溅射纳米铜膜涤纶织物的透光性能、屏蔽性能、导电性能关系，提出通过剥离实验和耐磨实验方法来综合评价铜膜和基布界面结合强度，阐明了溅射纳米铜膜与涤纶基布界面结合机理，分析了环境条件变化对表面磁控溅射纳米铜膜涤纶基布的导电性能影响，说明了表面磁控溅射纳米铜膜涤纶基布的导电性能受环境条件变化影响的机理。论文首先对涤纶基布表面磁控溅射纳米铜膜的形貌结构及成形机理进行表征研究，结果表明，在溅射工艺相同的条件下，涤纶机织布、针织布表面纳米铜膜颗粒分布较均匀，平均粒径及其表面的粗糙度值较小；非织造布、纳米纤维膜表面纳米铜在（111）晶面上的衍射峰明显较强，结晶度较高，在Cu（200）及（220）晶面上出现衍射峰。溅射功率增加，纳米铜膜粒径大小和表面粗糙度随之减小，薄膜均匀性、致密性先提高后下降；氩气压强增加，纤维表面粗糙度、纳米铜颗粒尺寸先减小后增加。沉积时间延长，铜薄膜厚度增加，铜原子质量百分数、原子百分含量都明显增加基布经氧等离子体预处理后出现明显凹凸现象，刻蚀作用较明显，纳米铜膜均匀致密，能完全覆盖基布表面，但纳米铜膜结晶度没有受到影响。溅射时间越长或溅射功率越大，薄膜平均厚度增加；表面越粗糙，结晶度就越高。纳米铜膜在涤纶基布表面按岛状方式生长，随沉积时间的增加，纳米铜颗粒团聚明显、相互连接，并不断聚合长大成致密的纳米铜膜。铜膜表面均方根粗糙度（RMS）先增后降，团聚颗粒数量增加，并在三维方向生长，导致表面粗糙度增加。当纳米铜颗粒继续沉积，纤维表面形成连续致密、具有晶体结构的铜膜，粗糙度反而会减小。在此基础上提出了变角度沉积生长模型，溅射原子在基布表面的迁移率是影响薄膜生长及其特性的重要因素。溅射工艺条件、基布组织结构、等离子体预处理等工艺对表面磁控溅射纳米铜膜的涤纶基布性能有一定的影响。然后对表面磁控溅射纳米铜膜的涤纶基布光学透射性能、导电性能、电磁屏蔽性能及其他应用性能进行测试分析，结果表明，溅射时间延长，样品透光性降低、导电性、电磁屏蔽效能明显增强，力学性能变化不明显；溅射功率增加，样品透光性降低，导电性能提高；氩气压强增加，样品透光性增强，导电性能减弱；由于基布本身的结构差异，孔隙率增加，样品透光性能提高，导电性能减弱；溅射时间相同时，机织物编织密度增加，样品导电能力提高，当电磁波频率相同时，电磁屏蔽性能也随编织密度的增加而略微增加；氧等离子体对涤纶纤维的刻蚀作用较氩等离子体均匀，经氧等离子体处理后，样品导电性能显着提高，电磁屏蔽性能提高约5dB，亲水性能明显改善，透气性变差，力学性能有所提高。接着对溅射纳米铜膜-涤纶基布界面结合强度展开研究，通过扫描电镜、剥离实验、耐磨实验综合观察分析薄膜—基布的界面微观结构状态、结合牢度。实验结果表明，随溅射时间延长，基布与薄膜间界面结合越牢固，耐磨性能越好。溅射时间延长、基材经等离子体预处理明显提高纳米铜薄膜和涤纶基布的附着力。最后对表面磁控溅射纳米铜膜涤纶基布的导电性能进行评价。改变环境温湿度、水洗程度后，样品导电性较稳定；在室温大气下放置90天后，铜薄膜连续性变差，与基布之间发生断裂，样品表面成分及化学状态并没发生变化，导电性能有所降低但逐渐趋向稳定。
二、高频电磁屏蔽用ITO膜结构与性能分析（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、高频电磁屏蔽用ITO膜结构与性能分析（论文提纲范文）
（1）宽频电磁屏蔽玻璃制备及性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 电磁屏蔽概述 |
| 1.2.1 电磁屏蔽类型 |
| 1.2.2 电磁屏蔽与屏蔽效能 |
| 1.3 透明电磁屏蔽材料分类 |
| 1.3.1 薄膜型的透明电磁屏蔽材料 |
| 1.3.2 网栅型的透明电磁屏蔽材料 |
| 1.4 透明电磁屏蔽玻璃的制备方法 |
| 1.4.1 薄膜型电磁屏蔽玻璃制备方法 |
| 1.4.2 网栅型电磁屏蔽玻璃制备方法 |
| 1.5 国内外研究现状 |
| 1.5.1 高频电磁屏蔽玻璃 |
| 1.5.2 低频电磁屏蔽玻璃 |
| 1.5.3 宽频电磁屏蔽玻璃 |
| 1.6 课题研究的目的及主要内容 |
| 第2章 ITO镀膜玻璃制备与性能分析 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 实验部分 |
| 2.2.1 实验材料及仪器 |
| 2.2.2 实验步骤 |
| 2.2.3 样品表征与测试 |
| 2.3 结果与讨论 |
| 2.3.1 ITO镀膜玻璃的结构及性能分析 |
| 2.3.2 多层ITO复合结构镀膜玻璃光学性能及屏蔽性能分析 |
| 2.4 结论 |
| 第3章 铁镍合金镀膜玻璃结构及性能分析 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 实验部分 |
| 3.2.1 实验材料及仪器 |
| 3.2.2 热处理工艺 |
| 3.2.3 铁镍合金镀膜玻璃磁导率测试 |
| 3.3 结果与讨论 |
| 3.3.1 镀膜工艺对铁镍合金镀膜玻璃性能的影响 |
| 3.3.2 热处理对铁镍合金镀膜玻璃结构和性能的影响 |
| 3.3.3 铁镍合金镀膜玻璃的电磁屏蔽性能 |
| 3.4 结论 |
| 第4章 宽频电磁屏蔽玻璃的结构设计与性能验证 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 实验部分 |
| 4.2.1 宽频电磁屏蔽玻璃的结构设计 |
| 4.2.2 宽频电磁屏蔽玻璃电磁屏蔽性能仿真 |
| 4.2.3 宽频电磁屏蔽玻璃的制备及性能测试 |
| 4.3 结果与讨论 |
| 4.3.2 复合电磁屏蔽玻璃的仿真实验结果 |
| 4.3.3 复合电磁屏蔽玻璃的光学性能与电磁屏蔽性能 |
| 4.4 结论 |
| 结论与展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间参加科研情况及取得的研究成果 |
| 致谢 |
（3）基于层层组装技术的电磁屏蔽复合织物的结构设计与性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 电磁屏蔽机理 |
| 1.3 电磁屏蔽材料概述 |
| 1.3.1 膜结构屏蔽材料 |
| 1.3.2 隔离结构屏蔽材料 |
| 1.3.3 三维结构屏蔽材料 |
| 1.3.4 织物基屏蔽材料 |
| 1.4 电磁屏蔽织物的研究现状 |
| 1.4.1 导电金属电磁屏蔽织物 |
| 1.4.2 碳基电磁屏蔽织物 |
| 1.4.3 导电高分子电磁屏蔽织物 |
| 1.4.4 MXene基电磁屏蔽织物 |
| 1.5 研究意义和研究内容 |
| 1.5.1 研究意义 |
| 1.5.2 研究内容 |
| 第二章 实验部分 |
| 2.1 实验基材和试剂 |
| 2.2 实验设备和仪器 |
| 2.3 实验方法 |
| 2.3.1 层层包覆型PANI/MXene/碳纤维电磁屏蔽织物的制备 |
| 2.3.2 导电交联网络型PANI/MXene/碳纤维电磁屏蔽织物的制备 |
| 2.4 样品表征与性能测试 |
| 2.4.1 扫面电子显微镜(SEM)测试 |
| 2.4.2 X射线衍射物相(XRD)分析 |
| 2.4.3 X射线能谱(EDS、XPS)测试 |
| 2.4.4 透射电子显微镜(TEM)测试 |
| 2.4.5 傅立叶红外光谱(FT-IR)表征 |
| 2.4.6 导电性能测试 |
| 2.4.7 电磁屏蔽性能(SE)测试 |
| 第三章 结果与讨论 |
| 3.1 层层包覆型PANI/MXene/碳纤维电磁屏蔽织物的制备及性能研究 |
| 3.1.1 微观表面形貌的表征 |
| 3.1.2 能谱和X射线衍射物相分析 |
| 3.1.3 导电和介电性能分析 |
| 3.1.4 电磁屏蔽性能分析 |
| 3.1.5 电磁屏蔽机理分析 |
| 3.1.6 应用性能分析 |
| 3.2 导电交联网络型PANI/MXene/碳纤维电磁屏蔽织物的制备及性能研究 |
| 3.2.1 微观表面形貌的表征 |
| 3.2.2 X射线能谱分析 |
| 3.2.3 导电性能分析 |
| 3.2.4 电磁屏蔽性能分析 |
| 3.2.5 热管理性能分析 |
| 3.2.6 疏水性和自清洁功能分析 |
| 3.2.7 应用性能分析 |
| 第四章 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士期间的研究成果 |
| 致谢 |
（4）新型超带宽透明吸波体设计及其机理研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 研究工作的背景与意义 |
| 1.2 国内外研究历史与现状 |
| 1.2.1 传统吸波体 |
| 1.2.2 超材料吸波体 |
| 1.2.3 光学透明超材料吸波体 |
| 1.3 本文的主要贡献与创新 |
| 1.4 本文的结构安排 |
| 第二章 透明超材料吸波体的理论基础 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 吸波体的研究方法 |
| 2.2.1 厚度宽带理论极限 |
| 2.2.2 周期结构的谱展开法 |
| 2.2.3 等效电路理论 |
| 2.3 透明吸波材料以及工艺 |
| 2.4 本章小结 |
| 第三章 高角度稳定性共形透明吸波体 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 斜入射时的电路模拟吸波体理论与介质加载技术 |
| 3.3 结构设计与机理分析 |
| 3.3.1 基于方形螺旋单元的高稳定性设计 |
| 3.3.2 基于波浪形螺旋单元的带宽拓展设计 |
| 3.4 加工与测试 |
| 3.4.1 光学性能测试 |
| 3.4.2 微波性能测试 |
| 3.5 本章小结 |
| 第四章 超宽带高角度稳定性透明吸波体 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 六边环形单元吸波体的等效电路模型 |
| 4.3 结构设计与机理分析 |
| 4.3.1 基于六边形组合单元的宽带高角度稳定性吸波体 |
| 4.3.2 基于PVC介质层的宽带高角度稳定性吸波体 |
| 4.4 加工与测试 |
| 4.4.1 光学性能测试 |
| 4.4.2 微波性能测试 |
| 4.5 本章小结 |
| 第五章 球面共形宽带透明吸波体 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 基于六边形组合单元的球面共形吸波体 |
| 5.3 加工与测试 |
| 5.3.1 光学性能测试 |
| 5.3.2 微波性能测试 |
| 5.4 本章小结 |
| 第六章 全文总结与展望 |
| 6.1 全文总结 |
| 6.2 后续工作展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 攻读专业硕士学位期间取得的成果 |
（5）基于超材料的电磁吸波体研究（论文提纲范文）
| 致谢 |
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 超材料概述 |
| 1.2 电磁超材料吸波体的研究进展和意义 |
| 1.2.1 电磁超材料吸波体的研究背景和意义 |
| 1.2.2 宽带电磁超材料吸波体的研究现状和进展 |
| 1.3 光学透明电磁超材料吸波体的研究现状 |
| 1.4 柔性电磁超材料吸波体的研究现状 |
| 1.5 本文研究内容 |
| 第二章 电磁超材料吸波体的理论基础 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 吸收原理 |
| 2.3 阻抗匹配 |
| 2.4 等效介质理论 |
| 2.5 等效电路模型 |
| 2.6 多次反射干涉理论 |
| 2.7 仿真与实验 |
| 2.8 本章小结 |
| 第三章 基于高阻表面的宽带超材料吸波体设计研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 单层吸波体 |
| 3.2.1 结构设计和参数优化 |
| 3.2.2 吸收机理 |
| 3.2.3 极化不敏感和斜入射角特性研究 |
| 3.2.4 样品的加工与测试 |
| 3.3 多层吸波体 |
| 3.3.1 结构设计 |
| 3.3.2 吸收机理 |
| 3.3.3 极化不敏感和斜入射角特性研究 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 光学透明超宽带电磁超材料吸波体的设计与研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 基于氧化铟锡的电磁超材料吸波体的设计与研究 |
| 4.2.1 基于ITO的超宽带电磁超材料吸波体的设计 |
| 4.2.2 吸波机理研究 |
| 4.2.3 吸波特性研究 |
| 4.3 样品的测试结果与分析 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 柔性多频段电磁超材料吸波体的设计与研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 多频段柔性电磁超材料的设计与研究 |
| 5.2.1 多频段柔性电磁超材料的仿真设计 |
| 5.2.2 吸收机理分析和参数仿真 |
| 5.3 样品的测试结果分析 |
| 5.4 本章小结 |
| 第六章 总结与展望 |
| 6.1 总结 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 |
（6）基于高阻抗表面的宽带超材料吸波体研究（论文提纲范文）
| 致谢 |
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 研究背景及意义 |
| 1.2 超材料吸波体的研究进展 |
| 1.3 高阻抗表面的研究进展 |
| 1.4 高阻抗表面的宽带超材料吸波体的研究现状 |
| 1.5 本文的主要研究内容及创新点 |
| 1.5.1 主要研究内容 |
| 1.5.2 论文创新点 |
| 第二章 高阻抗表面吸波材料基本特性研究 |
| 2.1 吸波材料的基础理论 |
| 2.1.1 吸波材料的吸收率 |
| 2.1.2 吸波材料的阻抗匹配特性 |
| 2.2 高阻抗表面吸波材料的理论研究 |
| 2.2.1 高阻抗表面吸波材料的等效电路模型 |
| 2.2.2 基于高阻薄膜的超材料吸波体的吸波机理 |
| 2.3 本章小结 |
| 第三章 基于电阻膜的超材料吸波体研究 |
| 3.1 超材料吸波体总体设计思路 |
| 3.2 基于电阻膜的超材料吸收体的设计研究 |
| 3.2.1 基本单元设计及特性研究 |
| 3.2.2 极化不敏感和斜入射特性研究 |
| 3.3 各参量对吸收性能的影响 |
| 3.3.1 单元大小的影响 |
| 3.3.2 电阻膜方块电阻的影响 |
| 3.3.3 介质基板材料特性的影响 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 微波段宽频带超材料吸波体的研究与设计 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 宽频带超材料吸波体的仿真设计 |
| 4.2.1 Ka波段的宽频带超材料吸波体设计 |
| 4.2.2 Ku波段的宽频带超材料吸波体设计 |
| 4.3 宽频带超材料吸波体的吸收机理与吸波特性分析 |
| 4.3.1 吸收机理 |
| 4.3.2 吸波特性分析 |
| 4.4 样品制备与吸收性能测试结果分析 |
| 4.4.1 样品制备 |
| 4.4.2 样品测试 |
| 4.4.3 测试结果和分析 |
| 4.5 本章小结 |
| 第五章 THz频段超材料吸波体的设计及特性研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 基于ITO的单频带超材料吸收体仿真设计 |
| 5.2.1 单元结构设计与仿真结果分析 |
| 5.2.2 吸收机理分析 |
| 5.2.3 吸波特性分析 |
| 5.3 样品制备与吸收性能测试结果分析 |
| 5.3.1 样品制备 |
| 5.3.2 样品吸收性能测试结果分析 |
| 5.4 本章小结 |
| 第六章 总结与展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 |
（7）非金属导电材料在表面等离子体激元和人工电磁结构中的应用（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 研究背景和意义 |
| 1.2 国内外研究现状 |
| 1.2.1 金属表面激发的等离子体激元 |
| 1.2.2 基于人工电磁结构的微波吸波结构 |
| 1.2.3 基于表面等离子体激元的太赫兹成像系统研究现状 |
| 1.3 本文主要研究内容 |
| 2 深紫外波段基于砷化镓的表面等离子体激元激发与光场增强 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 表面等离子体激元理论 |
| 2.2.1 激发表面等离子体激元的条件 |
| 2.2.2 表面等离子体激元的特征 |
| 2.3 同心圆环砷化镓薄膜激发表面等离子体激元 |
| 2.3.1 介电系数比较 |
| 2.3.2 仿真计算及结果分析 |
| 2.3.3 表面等离子体激元的性能比较 |
| 2.4 线性凹槽结构砷化镓薄膜激发表面等离子体激元 |
| 2.4.1 仿真结构及结果讨论 |
| 2.5 本章小结 |
| 3 微波波段基于氧化铟锡的人工电磁结构及透明超宽带吸波 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 基于ITO玻璃的伪表面等离子体激元 |
| 3.2.1 ITO薄膜简介 |
| 3.2.2 ITO玻璃城墙结构 |
| 3.3 基于人工电磁结构的透明微波吸波结构 |
| 3.3.1 常见微波吸波结构 |
| 3.3.2 模型设计与仿真 |
| 3.3.3 表面电流和电场分布 |
| 3.3.4 斜入射波及不同极化角度分析 |
| 3.3.5 样品制备 |
| 3.3.6 测试方法及结果分析 |
| 3.4 ITO-玻璃吸波结构的等效电路 |
| 3.4.1 完美吸波结构理论推导 |
| 3.4.2 等效电路及阻抗计算 |
| 3.5 本章小结 |
| 4 微波波段基于人工电磁结构的柔性透明超宽带吸波结构 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 平面状态下的ITO-PET吸波结构性能 |
| 4.2.1 模型设计及仿真 |
| 4.2.2 表面电流、电场分布分析 |
| 4.2.3 微波波段和光波波段性能测试 |
| 4.2.4 等效电路及阻抗分析 |
| 4.2.5 不同极化角度下的吸波情况分析 |
| 4.3 弯曲状态下的ITO-PET吸波结构性能 |
| 4.3.1 不同弯曲半径下的吸波性能 |
| 4.3.2 原理分析与讨论 |
| 4.4 本章小结 |
| 5 太赫兹波段基于表面等离子体激元的精确定位及比例尺 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 基于氧化铟锡薄膜的太赫兹成像精确定位结构 |
| 5.2.1 仿真模型及结果 |
| 5.2.2 样品制备工艺 |
| 5.3 太赫兹时域光谱技术简介 |
| 5.4 实验及结果分析 |
| 5.4.1 精确定位实验结果 |
| 5.4.2 分析及讨论 |
| 5.5 太赫兹成像中的精确比例尺 |
| 5.6 本章小结 |
| 6 结束语 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 附录 |
（8）复杂电磁环境下激光探测系统电磁屏蔽技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 研究工作的背景与意义 |
| 1.2 激光制导武器面临的电磁环境 |
| 1.3 激光探测系统电磁屏蔽技术的国内外研究历史与现状 |
| 1.3.1 激光探测系统电磁屏蔽技术国外研究现状 |
| 1.3.2 国内整流罩屏蔽膜系的研究现状 |
| 1.4 激光探测系统存在的问题 |
| 1.5 本论文的结构安排 |
| 第二章 电磁环境对激光探测系统干扰机理研究 |
| 2.1 激光探测系统基本工作原理及组成 |
| 2.1.1 激光探测系统基本工作原理 |
| 2.1.2 激光探测系统的组成及功能 |
| 2.2 电磁环境下激光探测系统内部工作特性分析 |
| 2.3 激光探测系统干扰机理分析 |
| 2.4 本章小结 |
| 第三章 激光探测系统电磁屏蔽原理分析 |
| 3.1 探测系统电磁屏蔽设计分析 |
| 3.2 金属网栅屏蔽整流罩设计分析 |
| 3.2.1 金属网栅整流罩屏蔽效能 |
| 3.2.2 金属网栅整流罩的透光性及成像性 |
| 3.3 ITO透明导电膜整流罩设计分析 |
| 3.3.1 ITO透明导电膜整流罩屏蔽效能 |
| 3.3.2 ITO透明导电膜整流罩的透光性和成像性 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 金属网栅整流罩设计及验证 |
| 4.1 金属网栅整流罩设计 |
| 4.1.1 金属网栅整流罩的周期和线宽设计 |
| 4.1.2 金属网栅的设计步骤 |
| 4.1.3 金属网栅整流罩制备方法介绍 |
| 4.1.4 金属网栅整流罩制备 |
| 4.2 金属网栅整流罩测试 |
| 4.2.1 金属网栅整流罩测试原理 |
| 4.2.2 金属网栅整流罩测试步骤 |
| 4.2.3 金属网栅整流罩的试验数据 |
| 4.2.4 金属网栅整流罩屏蔽效能理论值与实测值比较分析 |
| 4.3 本章小结 |
| 第五章 ITO透明导电膜整流罩的设计及验证 |
| 5.1 ITO透明导电膜整流罩设计 |
| 5.1.1 ITO透明导电膜整流罩制备方法介绍 |
| 5.1.2 ITO透明导电膜整流罩设计 |
| 5.1.3 ITO透明导电膜整流罩的制备 |
| 5.1.4 ITO透明导电膜整流罩的测试 |
| 5.1.5 三种整流罩试验结果分析 |
| 5.2 试验结论 |
| 5.3 本章小结 |
| 第六章 屏蔽整流罩的透波性及成像性研究 |
| 6.1 光学透过率测试 |
| 6.2 试验结果分析 |
| 6.3 成像性能测试 |
| 6.4 本章小结 |
| 第七章 全文总结与展望 |
| 7.1 全文总结 |
| 7.2 后续工作展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 |
（9）光子晶体膜制备工艺对其性能的影响（论文提纲范文）
| 1样品的制备和分析 |
| 1.1样品的制备 |
| 1.2样品测试 |
| 2结果与讨论 |
| 2.1氧氩比对光子晶体膜性能的影响 |
| 2.1.1氧氩比对光子晶体膜透光率和方阻的影响 |
| 2.1.2氧氩比对光子晶体膜屏蔽效能的影响 |
| 2.2热处理对光子晶体膜性能的影响 |
| 2. 2. 1热处理对其形貌和结晶度的影响 |
| 2.2.2热处理对其透光率的影响 |
| 2.2.3热处理对其屏蔽性能的影响 |
| 3结论 |
（10）涤纶基布表面磁控溅射纳米铜膜及性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 纳米薄膜材料 |
| 1.3 纳米薄膜材料制备技术 |
| 1.3.1 溅射法 |
| 1.3.2 化学气相沉积法 |
| 1.3.3 溶胶-凝胶法 |
| 1.3.4 电化学沉积法 |
| 1.4 纳米铜膜功能纺织材料的研究 |
| 1.4.1 纳米铜薄膜的研究现状 |
| 1.4.2 纳米铜膜在功能纺织材料中的应用研究 |
| 1.5 研究目的、意义及主要内容 |
| 1.5.1 研究目的、意义 |
| 1.5.2 研究内容 |
| 第二章 实验材料的选择及实验方法 |
| 2.1 实验材料的选择 |
| 2.2 实验仪器和方法 |
| 2.2.1 实验仪器 |
| 2.2.2 实验方法 |
| 第三章 涤纶基布表面磁控溅射纳米铜膜的结构和成形机理 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 涤纶基布表面磁控溅射铜膜的结构 |
| 3.2.1 纳米铜膜的形貌 |
| 3.2.2 表面成分分析 |
| 3.2.3 晶态结构表征 |
| 3.3 纳米金属薄膜生长过程及模式 |
| 3.4 涤纶基布表面纳米铜膜的成形机理 |
| 3.5 本章小结 |
| 第四章 表面磁控溅射纳米铜膜的涤纶基布性能研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 实验部分 |
| 4.2.1 基布孔径和孔隙率测试 |
| 4.2.2 光学透射性能测试 |
| 4.2.3 导电性能测试 |
| 4.2.4 电磁屏蔽性能测试 |
| 4.2.5 薄膜均匀性评价 |
| 4.2.6 其他应用性能测试 |
| 4.3 实验结果与讨论 |
| 4.3.1 涤纶基布孔径大小分布及孔隙率 |
| 4.3.2 透光性能 |
| 4.3.3 导电性能 |
| 4.3.4 电磁屏蔽性能 |
| 4.3.5 其他应用性能 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 溅射纳米铜膜-涤纶基布界面结合强度研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 实验部分 |
| 5.2.1 铜膜与基布结合界面形貌表征 |
| 5.2.2 铜膜与基布界面结合强度测试 |
| 5.2.3 耐磨性能测试 |
| 5.3 实验结果与讨论 |
| 5.3.1 铜膜与基布界面结合形貌 |
| 5.3.2 铜膜与基布剥离性能分析 |
| 5.3.3 铜膜与基布界面结合机理 |
| 5.3.4 耐磨性分析 |
| 5.4 本章小结 |
| 第六章 表面磁控溅射纳米铜膜涤纶基布的导电性能评价 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 实验部分 |
| 6.3 实验结果与讨论 |
| 6.3.1 正交试验结果分析 |
| 6.3.2 环境条件对表面磁控溅射纳米铜膜涤纶基布的导电性影响 |
| 6.3.3 表面磁控溅射纳米铜膜涤纶基布的导电时效性 |
| 6.4 本章小结 |
| 第七章 结论与展望 |
| 7.1 主要结论 |
| 7.2 创新点 |
| 7.3 展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 附录：作者在攻读博士学位期间发表的论文 |
四、高频电磁屏蔽用ITO膜结构与性能分析（论文参考文献）
- [1]宽频电磁屏蔽玻璃制备及性能研究[D]. 曹文龙. 中国建筑材料科学研究总院, 2021
- [2]基于超薄金属的透明电磁屏蔽多层结构设计与制备研究[D]. 袁昌卫. 上海大学, 2021
- [3]基于层层组装技术的电磁屏蔽复合织物的结构设计与性能研究[D]. 殷光. 东华大学, 2021(01)
- [4]新型超带宽透明吸波体设计及其机理研究[D]. 江浩. 电子科技大学, 2021(01)
- [5]基于超材料的电磁吸波体研究[D]. 吕坤. 合肥工业大学, 2021(02)
- [6]基于高阻抗表面的宽带超材料吸波体研究[D]. 卢玉娇. 合肥工业大学, 2019(01)
- [7]非金属导电材料在表面等离子体激元和人工电磁结构中的应用[D]. 赖森锋. 南京理工大学, 2018(06)
- [8]复杂电磁环境下激光探测系统电磁屏蔽技术研究[D]. 孙艳华. 电子科技大学, 2017(02)
- [9]光子晶体膜制备工艺对其性能的影响[J]. 赵亚丽,张青翠,李克训,魏学红,石其禄. 真空科学与技术学报, 2015(07)
- [10]涤纶基布表面磁控溅射纳米铜膜及性能研究[D]. 孟灵灵. 江南大学, 2013(01)